|
23/jun/02
Ingenieros de la Universidad de Princeton creó un
sistema de construcción de microchips que es más rápido y menos costosos que
el actual. Este método se basa en las máquinas de escribir.
Chips fabricados a golpe de martillo
(Wired News) Un grupo de ingenieros de la Universidad de
Princeton anunció un método que permite fabricar microchips de menores
dimensiones, con mayor velocidad y menor costo que los métodos actuales. Este
método consiste en grabar físicamente los microchips, y es similar a la
técnica que se utiliza en las máquinas de escribir, en la cual una letra en
sobrerrelieve golpea sobre una hoja de papel.
El sistema que hoy se utiliza, consiste en un haz de luz ultravioleta que
impresiona una película fotosensible sobre la oblea de silicio. Esta película
se revela de la misma forma que una fotografía, y el silicio se graba según
este patrón fotográfico. Luego se retira la película, y en la oblea de
silicio sólo quedan los canales que formarán la red circuital. No obstante,
con la fotolitografía no se puede lograr componentes de dimensiones menores que
la longitud de onda de la luz utilizada, que por lo general es de 193
nanómetros. Y como cada vez se reducen más las dimensiones de los microchips,
cada vez se está más cerca de llegar al límite de este método.
"Con las técnicas ópticas se pueden lograr componentes (de microchips) de
dimensiones sumamente reducidas, que pueden llegar a ser de un cuarto de la
longitud de onda de la luz explicó Tsu-Jae King, de la Universidad de
California, sede Berkeley. Por lo tanto, es mejor usar métodos de grabado
físicos para lograr componentes de pequeñas dimensiones".
Tal como lo señaló King, ya hay microchips que tienen componentes que miden 65
nanómetros; con lo cual, los fabricantes están cerca del límite físico de la
fotolitografía, además del tiempo y dinero que insumen los seis o siete pasos
del proceso.
Stephen Y. Chou, de la Universidad de Princeton asegura que el nuevo método
permite hacer todo a la vez. "Se coloca una oblea plana y, en una fracción
de segundo, está hecho el patrón que habrá de seguir el circuito". Chou,
cuyo trabajo ha sido publicado en la edición del jueves de Nature, desarrolló
el método precursor de este proceso de fabricación de microchips en 1996.
En la versión anterior, la superficie de grabado, que era de cuarzo y en
sobrerrelieve, era aplicada con presión sobre una oblea de silicio recubierta
con una película. Luego se grababa el microchip, y se retiraba la película,
como en el método tradicional. Sin embargo, el método que anunció el jueves
hace todos estos pasos el corte de la película, el revelado y el grabado en
una sola vez. El método consiste simplemente en presionar una superficie de
grabado de cuarzo en sobrerrelieve contra el silicio y al cabo de un nanosegundo
que es lo que tarda el haz de láser en atravesar el cuarzo y llegar al
silicio ya está listo el microchip. El pulso de láser derrite la capa
superficial de la oblea de silicio, la cual luego se dilata y adquiere la forma
del molde. El método de Chou permite lograr componentes de microchips de apenas
10 nm, y, según su creador, tendría un costo 10 veces menor que el de la
fotolitografía. Además, con este método ya no es necesario utilizar ni la
película fotosensible ni las sustancias químicas que se usan para el revelado
y el grabado, algunas de las cuales podrían ser contaminantes.
La nota completa en...
http://wired.terra.com.ar/wired/tecnologia/02/06/20/tec_46223.html
|
|